捕捉微小位移的光学测量原理

微米至纳米级位移测量广泛用于精密加工、半导体制造、材料试验和研究开发。光学方法无需接触工件，可避免测量力、磨损和机械跟随性能带来的影响。

微小位移测量的指标

分辨率表示可区分的最小变化，精度表示测量值与真值的接近程度，重复性表示相同条件下的离散程度。还应根据目标区分静态漂移、低速变形和高速振动。

激光干涉测量

激光干涉仪利用测量光与参考光的相位差检测位移。波长提供稳定的长度基准，因此可实现高分辨率和可追溯测量。空气折射率、温度、气压、湿度、振动和光路对准会影响结果。

数字图像相关法（DIC）

DIC比较变形前后的图像纹理，计算二维或三维位移与应变分布。它适合远距离和大面积测量，但精度受相机分辨率、镜头畸变、随机斑点、照明和标定影响。

方法选择

干涉仪适合高精度单轴位移和平台评价；DIC适合面内分布、结构变形和材料试验。还应根据测量范围、速度、工作距离、表面状态及环境稳定性选择方案。

总结

光学微位移测量的关键不仅是传感器分辨率，还包括稳定的光路、环境补偿、标定和数据处理。明确测量目的后再选择原理，才能得到可重复的结果。